Formation of nanocrystalline alloys after Cu ions implantation into amorphous precursor

纳米晶材料 无定形固体 材料科学 离子注入 微观结构 穆斯堡尔谱学 离子 合金 分析化学(期刊) 非晶态金属 冶金 结晶学 纳米技术 化学 有机化学 色谱法
作者
J. Sitek,Dominika Holková,Július Dekan,Milan Pavúk,Patrik Novák
出处
期刊:Journal of Electrical Engineering [De Gruyter]
卷期号:70 (2): 171-175
标识
DOI:10.2478/jee-2019-0025
摘要

Abstract Amorphous precursors of A: (Fe 64 Co 21 B 15 ) 95 P 4 Cu 1 and B: (Fe 64 Co 21 B 15 ) 96 P 4 alloys were used. Nanocrystalline structure was created by heat treatment. Samples were studied by Mössbauer spectroscopy, XRD and AFM. Cu ions of dose 10 16 at/cm 2 were implanted into the amorphous B. According to simulated program we estimated that Cu ions created surface layer with a thickness of a few micrometres. Changes in bulk structure were not observed at parameters of Mössbauer spectra after implantation. After heat treatment the implanted sample was nearly identical with the nanocrystalline sample of A. Implantation had an influence on the volumetric fraction of the constituent phases and on their magnetic microstructure. Implantation of Cu ions in amorphous precursor containing Cu as A caused after heat treatment in nanocrystalline state increasing of nanocrystalline component. This technology of preparation of nanocrystalline alloys indicate that implantation of ions into an amorphous precursor has an influence on the final structure and properties of nanocrystalline alloy.
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