锡
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作者
Niklas Huster,Ramin Ghiyasi,David Zanders,Detlef Rogalla,Maarit Karppinen,Anjana Devi
出处
期刊：Dalton Transactions
[Royal Society of Chemistry]
日期：2022-01-01
卷期号：51 (39): 14970-14979
被引量：5
摘要
We report a new water-based thermal ALD process for the deposition of SnO using a liquid formamidine based tin( ii ) precursor.
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