Evaluation of tin nitride (Sn3N4) via atomic layer deposition using novel volatile Sn precursors

原子层沉积 氮化物 图层(电子) 沉积(地质) 材料科学 氮化钛 化学工程 化学 冶金 纳米技术 工程类 生物 古生物学 沉积物
作者
Hyeonbin Park,Heenang Choi,Sunyoung Shin,Bo Keun Park,Kibum Kang,Ji Yeon Ryu,Taeyong Eom,Taek‐Mo Chung
出处
期刊:Dalton Transactions [The Royal Society of Chemistry]
卷期号:52 (41): 15033-15042
标识
DOI:10.1039/d3dt02138f
摘要

Novel tin precursor with iminopyrrolidine moieties was synthesized and investigated for Sn 3 N 4 thin films via the ALD process.

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