Highly textured AlN films deposited by pulsed DC magnetron sputtering with optimized process parameters

脉冲直流 材料科学 溅射沉积 高功率脉冲磁控溅射 光电子学 过程(计算) 溅射 腔磁控管 纹理(宇宙学) 薄膜 纳米技术 计算机科学 操作系统 图像(数学) 人工智能
作者
Vladimir R. Shayapov,A L Bogoslovtseva,Sergey Chepkasov,Aleksandr V. Kapishnikov,Maria I. Mironova,Pavel Geydt
出处
期刊:Solid State Communications [Elsevier]
卷期号:397: 115821-115821
标识
DOI:10.1016/j.ssc.2024.115821

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