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Advancements in tantalum nitride-based films: A review

氮化钽 氮化物 材料科学 冶金 纳米技术 工程物理 工程类 图层(电子)
作者
X. Li,Jingjing Wang,Wei Li,Ping Liu,Shuyi Wang,Junhao Li,Baosen Mi,Guangan Zhang
出处
期刊:Journal of Alloys and Compounds [Elsevier BV]
卷期号:: 179427-179427
标识
DOI:10.1016/j.jallcom.2025.179427
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