Magnetron sputtering growth and growth mechanism of GeSn films with Sn content exceeding 25% on InP substrates

溅射沉积 材料科学 溅射 光电子学 腔磁控管 机制(生物学) 薄膜 纳米技术 物理 量子力学
作者
Yiliang Diao,Junfeng Yang,Zhanren Wang,Wenhao Meng,Guanzhou Liu,Zhiwei Huang,Jinrong Zhou,Shaoying Ke
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:: 163122-163122
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2025.163122
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