Coulomb drag in metal monochalcogenides double-layer structures with Mexican-hat band dispersions

凝聚态物理 阻力 电阻率和电导率 库仑 散射 等离子体子 价(化学) 态密度 物理 材料科学 量子力学 电子 热力学
作者
Sasan Rostami,T. Vazifehshenas,Taha Salavati-fard
出处
期刊:Journal of Physics: Condensed Matter [IOP Publishing]
被引量:2
标识
DOI:10.1088/1361-648x/abeebc
摘要

We theoretically study the Coulomb drag resistivity and plasmon modes behavior for a system composed of two parallel p-type doped GaS monolayers with Mexican-hat valence energy band using the Boltzmann transport theory formalism.We investigate the effect of temperature, T , carrier density, p, and layer separation, d, on the plasmon modes and drag resistivity within the energy-independent scattering time approximation.Our results show that the density dependence of plasmon modes can be approximated by p 0.5 .Also, the calculations suggest a d 0.2 and a d 0.1 dependencies for the acoustic and optical plasmon energies, respectively.Interestingly, we obtain that the behavior of drag resistivity in the double-layer metal monochalcogenides swings between the behavior of a double-quantum well system with parabolic dispersion and that of a double-quantum wire structure with a large carrier density of states.In particular, the transresistivity value reduces exponentially with increasing the distance between layers.Furthermore, the drag resistivity changes as T 2 /p 4 ( T 2.8 /p 4.5 ) at low (intermediate) temperatures.Finally, we compare the drag resistivity as a function of temperature for GaS with other Mexican-hat materials including GaSe and InSe and find that it adopts higher values when the metal monochalcogenide has smaller Mexican-hat height.
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