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Lignin-derived carbon quantum dot/PVA films for totally blocking UV and high-energy blue light

阻塞(统计) 量子点 木质素 碳纤维 材料科学 化学工程 化学 光化学 纳米技术 有机化学 复合材料 计算机科学 计算机网络 复合数 工程类
作者
Seok Won Park,So Hui Im,Woo Tae Hong,Hyun Kyoung Yang,Yun Kyung Jung
出处
期刊:International Journal of Biological Macromolecules [Elsevier BV]
卷期号:268 (Pt 2): 131919-131919 被引量:42
标识
DOI:10.1016/j.ijbiomac.2024.131919
摘要

Excessive exposure to UV and high-energy blue light (HEBL) can cause fatal eye and skin injuries. As a result, it is crucial to protect our bodies from UV and HEBL radiation. To achieve complete blocking of UV and HEBL, we developed a lignin-derived carbon quantum dot (L-CQD)/polyvinyl alcohol (PVA) film. L-CQD was synthesized from lignin, a waste woody biomass, and then blended with a PVA matrix to create a flexible L-CQD/PVA film. Thanks to simultaneous UV and HEBL absorption characteristics and bright color of L-CQD, the PVA film with 0.375 wt% L-CQD demonstrated outstanding blocking efficiency: 100 % in UV-C, UV-B, and UV-A, and at least 99.9 % in HEBL. It also exhibited a 44 % increase in lightness and a 12 % enhancement in transparency compared to lignin/PVA film. The film's ability to block UV and HEBL was further demonstrated by reducing >40 % UV-induced ROS formation in both cancerous and normal cell lines (Hs 294T, HeLa, CCD-986sk, and L929), as well as by blocking blue laser diode (LD) and LED. Since the L-CQD/PVA film is simple to produce, environmentally friendly, flexible, and thermally stable, it is suitable for use as a protective coating against sunlight and harmful emissions from IT devices.
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