High-temperature-reverse-bias testing of power VDMOS transistors

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作者
N. Tošić,B. Peśić,N. Stojadinović
出处
期刊:Microelectronics Reliability [Elsevier BV]
卷期号:37 (10-11): 1759-1762 被引量:8
标识
DOI:10.1016/s0026-2714(97)00155-8
摘要

In this paper we have investigated reliability and failure mechanisms in power VDMOSFETs subjected to HTRB (High-Temperature-Reverse-Bias) test. It has been found that electromigration at contacts, intemetalic processes at the solder joint and gate oxide breakdown are the main failure mechanisms.
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