A Sensitive Broadband (UV–vis–NIR) Perovskite Photodetector Using Topological Insulator as Electrodes

光电探测器 材料科学 钙钛矿(结构) 响应度 光电子学 比探测率 电极 分子束外延 量子效率 拓扑绝缘体 光学 外延 纳米技术 图层(电子) 物理 工程类 量子力学 化学工程
作者
Feng‐Xia Liang,Lin Liang,Xing‐Yuan Zhao,Lin‐Bao Luo,Yuhung Liu,Xiaowei Tong,Zhixiang Zhang,J. C. A. Huang
出处
期刊:Advanced Optical Materials [Wiley]
卷期号:7 (4) 被引量:39
标识
DOI:10.1002/adom.201801392
摘要

Abstract Here, a sensitive and broadband perovskite photodetector is developed by using crystalline topological insulator (TI) Bi 2 Se 3 film as the electrode, which is synthesized by molecular beam epitaxy (MBE). The as‐fabricated Bi 2 Se 3 ‐FA 0.85 Cs 0.15 PbI 3 ‐Bi 2 Se 3 photodetector exhibits apparent sensitivity to 650 nm illumination with an on/off ratio of 0.8 × 10 5 and good reproducibility. The responsivity, external quantum efficiency, and specific detectivity are estimated to be 8.4 A W −1 , 1604%, and 1.7 × 10 13 Jones, respectively, which are better not only than the perovskite device using Au as electrode, but also than the majority of other perovskite materials based devices. It is also interesting to find that the TI based perovskite photodetector displays obvious photoresponse to near infrared light (NIR) with 980 nm due to contribution of TI Bi 2 Se 3 layer. It is believed that the present TI based perovskite photodetector holds promise for broadband and high‐performance optoelectronic applications in the future.
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