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Structural and optoelectronic properties of ZnGaO thin film by pulsed laser deposition

材料科学 薄膜 脉冲激光沉积 分析化学(期刊) 电阻率和电导率 衍射 带隙 陶瓷 透射率 沉积(地质) 光电子学 复合材料 纳米技术 光学 化学 生物 电气工程 物理 工程类 古生物学 色谱法 沉积物
作者
Li Wang,Shufeng Li,Xiaowei Han,Dongwen Gao,Yong Pan
标识
DOI:10.1117/12.2284289
摘要

ZnO has attracted much attention because of its high-energy gap and exciton binding energy at room temperature. Compared to ZnO thin films, ZnGaO thin films are more resistive to oxidation and have smaller deformation of lattice. In this study, the high purity ZnSe and Ga2O3 powders were weighted at a molar ratio of 18:1. Se was oxidized to Se2O3 and separated from the mixture powders by using conventional solid state reaction method in air, and the ZnGaO ceramic target was prepared. We fabricated the ZnGaO films on silica glass by pulsed laser deposition (PLD) method under different oxygen pressure at room temperature. The as-grown films were tested by X-ray diffraction and atomic force microscope (AFM) to diagnose the crystal structure and surface morphology. Moreover, we obtained the optical transmittance of ZnGaO film and found that the electrical conductivity capacity varied with the increase of oxygen pressure.

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