A review on effect of various high-k dielectric materials on the performance of FinFET device

材料科学 光电子学 晶体管 排水诱导屏障降低 多晶硅 高-κ电介质 阈下传导 CMOS芯片 场效应晶体管 MOSFET 栅氧化层 工程物理 栅极电介质 短通道效应 电介质 电气工程 纳米技术 薄膜晶体管 工程类 电压 图层(电子)
作者
J Naveen Ananda Kumar,Shilpi Birla,Garima Agarwal
出处
期刊:Materials Today: Proceedings [Elsevier]
卷期号:79: 297-302 被引量:25
标识
DOI:10.1016/j.matpr.2022.11.204

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