Fabrication of plasmonic cavity arrays for SERS analysis

材料科学 纳米环 等离子体子 分析物 蚀刻(微加工) 单层 反应离子刻蚀 光电子学 拉曼散射 拉曼光谱 纳米技术 光学 图层(电子) 化学 物理 物理化学
作者
Ning Li,Lei Feng,Fei Teng,Nan Lü
出处
期刊:Nanotechnology [IOP Publishing]
卷期号:28 (18): 185301-185301 被引量:10
标识
DOI:10.1088/1361-6528/aa6952
摘要

The plasmonic cavity arrays are ideal substrates for surface enhanced Raman scattering analysis because they can provide hot spots with large volume for analyte molecules. The large area increases the probability to make more analyte molecules on hot spots and leads to a high reproducibility. Therefore, to develop a simple method for creating cavity arrays is important. Herein, we demonstrate how to fabricate a V and W shape cavity arrays by a simple method based on self-assembly. Briefly, the V and W shape cavity arrays are respectively fabricated by taking KOH etching on a nanohole and a nanoring array patterned silicon (Si) slides. The nanohole array is generated by taking a reactive ion etching on a Si slide assembled with monolayer of polystyrene (PS) spheres. The nanoring array is generated by taking a reactive ion etching on a Si slide covered with a monolayer of octadecyltrichlorosilane before self-assembling PS spheres. Both plasmonic V and W cavity arrays can provide large hot area, which increases the probability for analyte molecules to deposit on the hot spots. Taking 4-Mercaptopyridine as analyte probe, the enhancement factor can reach 2.99 × 105 and 9.97 × 105 for plasmonic V cavity and W cavity array, respectively. The relative standard deviations of the plasmonic V and W cavity arrays are 6.5% and 10.2% respectively according to the spectra collected on 20 random spots.

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