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Hexagonal boron nitride film on sapphire substrate grown by low-pressure and high-temperature halide vapor phase epitaxy

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作者
Ting Liu,Xu Li,Jianyun Zhao,Qian Zhang,Yong Lu,Ji Xu,Shuxin Tan,Jicai Zhang
出处
期刊：Journal of Crystal Growth [Elsevier]
日期：2022-04-06 卷期号：588: 126655-126655 被引量：4
标识
DOI：10.1016/j.jcrysgro.2022.126655
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