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Light and elevated temperature induced degradation in gallium- and boron-doped hpmc-Si wafers studied by hyperspectral photoluminescence imaging

光致发光 高光谱成像 薄脆饼 镓 降级（电信） 材料科学 兴奋剂 硼 光电子学 砷化镓 化学 电子工程 冶金 计算机科学 有机化学 人工智能 工程类
作者
Torbjørn Mehl,Oda Goa Berge,I. Burud,Rune Søndenå,Espen Olsen
出处
期刊：Nucleation and Atmospheric Aerosols 日期：2023-01-01 卷期号：2826: 030007-030007
标识
DOI：10.1063/5.0148403
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