Matching the metal oxides with a conjugated and confined N-oxyl radical for the photocatalytic C(sp3)–H bond activation

光催化 光化学 激进的 金属 化学 电子转移 吸附 电子顺磁共振 材料科学 催化作用 有机化学 物理 核磁共振
作者
Ting Li,Kaiyi Su,Chaofeng Zhang,Bingbing Luo,Yue Zhang,Jinlan Cheng,Yongcan Jin,Feng Wang
出处
期刊:Applied Catalysis B-environmental [Elsevier BV]
卷期号:342: 123432-123432 被引量:6
标识
DOI:10.1016/j.apcatb.2023.123432
摘要

Generating controllable N-oxyl radicals is an efficient method for the C–H bonds activation. Here the promotion effect of N-hydroxyphthalimide (NHPI) on the photocatalytic C(sp3)–H bond activation over various metal oxides was systemically studied with control experiments, UV-Vis DRS, FT-IR, ESR, and PCR. Two photocatalytic mechanisms were highlighted for the generation of critical PINO radical from NHPI: (1) The hole oxidation mechanism, the photo-induced hole (h+) of metal oxides directly oxidize the adsorbed NHPI* to a confined PINO*; (2) Ligand-to-metal charge transfer (LMCT) mechanism, the light induces the electron transfer from adsorbed NHPI* to oxides with a wide-band gap and provides a confined PINO*. Furthermore, this work also highlights a lattice-molecular structure matching effect to explain the success of certain oxides in building the h+ oxidation or LMCT systems with NHPI. The corresponding results can inspire further photocatalysis of semiconductors in C–H bond activation with versatile N-oxyl radicals.
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