Characterization and Growth Kinetics of Borides Layers on Near-Alpha Titanium Alloys

渗硼 硼化物 材料科学 络腮胡子 胡须 微观结构 合金 冶金 扩散 图层(电子) 钛合金 活化能 复合材料 热力学 化学 物理 有机化学
作者
Rongxun Piao,Wensong Wang,Biao Hu,Haixia Hu
出处
期刊:Materials [Multidisciplinary Digital Publishing Institute]
卷期号:17 (19): 4815-4815 被引量:1
标识
DOI:10.3390/ma17194815
摘要

Pack boriding with CeO2 was performed on the powder metallurgical (PM) near-α type titanium alloy at a temperature of 1273–1373 K for 5–15 h followed by air cooling. The microstructure analysis showed that the boride layer on the surface of the alloy was mainly composed of a monolithic TiB2 outer layer, inner whisker TiB and sub-micron sized flake-like TiB layer. The growth kinetics of the TiB2 and TiB layers obeyed the parabolic diffusion model. The diffusion coefficient of boron in the boride layers obtained in the present study was well within the ranges reported in the literature. The activation energies of boron in the TiB2 and TiB layers during the pack boriding were estimated to be 166.4 kJ/mol and 122.8 kJ/mol, respectively. Friction tests showed that alloys borided at moderate temperatures and times had lower friction coefficients, which may have been due to the fine grain strengthening effect of TiB whiskers. The alloy borided at 1273 K for 10 h had a minimum friction coefficient of 0.73.
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