Passivated Interfacial Traps of Monolayer MoS2 with Bipolar Electrical Pulse

单层 材料科学 光电流 光电子学 光电探测器 钝化 堆积 纳米技术 图层(电子) 核磁共振 物理
作者
Po-Han Chen,Chun‐An Chen,Yu‐Ting Lin,Ping-Yi Hsieh,Meng‐Hsi Chuang,Xiaoze Liu,Tung-Ying Hsieh,Chang‐Hong Shen,Jia‐Min Shieh,Meng‐Chyi Wu,Yung‐Fu Chen,Chih-Chao Yang,Yi‐Hsien Lee
出处
期刊:ACS Applied Materials & Interfaces [American Chemical Society]
卷期号:15 (8): 10812-10819 被引量:8
标识
DOI:10.1021/acsami.2c19705
摘要

Heterogeneous integration of monolayers is an emergent route of spatially combining materials with available platforms for unprecedented properties. A long-standing challenge along this route is to manipulate interfacial configurations of each unit in stacking architecture. A monolayer of transition metal dichalcogenides (TMDs) offers an embodiment of studying interface engineering of integrated systems because optoelectronic performances generally trade off with each other due to interfacial trap states. While ultrahigh photoresponsivity of TMDs phototransistors has been realized, a long response time commonly appears and hinders applications. Here, fundamental processes in excitation and relaxation of the photoresponse are studied and correlated with interfacial traps of the monolayer MoS2. A mechanism for the onset of saturation photocurrent and the reset behavior in the monolayer photodetector is illustrated based on device performances. Electrostatic passivation of interfacial traps is achieved with the bipolar gate pulse and significantly reduces the response time for photocurrent to reach saturated states. This work paves the way toward fast-speed and ultrahigh-gain devices of stacked two-dimensional monolayers.
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