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Mechanisms of acid generation from ionic photoacid generators for extreme ultraviolet and electron beam lithography

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作者
Chengbin Fu,Kun Du,Jie Xue,Hanshen Xin,Jianhua Zhang,Haoyuan Li
出处
期刊：Physical Chemistry Chemical Physics [The Royal Society of Chemistry]
日期：2024-01-01 卷期号：26 (27): 18547-18556 被引量：17
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1039/d4cp01814a
摘要
The mechanisms of photoacid production from ionic photoacid generators for extreme ultraviolet and electron beam lithography are revealed.
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