Low temperature PECVD processes for the fabrication of integrated symmetrical resonant UV210 Organic/Semiconductor structures

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作者
J. Gastebois,Nathalie Coulon,Hervé Cormerais,Christophe Levallois,E. Bêche,Jérôme Esvan,Alain Moréac,Hervé Lhermite,Lucas Garnier,Bruno Bêche
出处
期刊:Materials today communications [Elsevier BV]
卷期号:39: 109173-109173
标识
DOI:10.1016/j.mtcomm.2024.109173

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