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Dipole formation and electrical properties of high-k/SiO2 interface according to the density of SiO2 interfacial layer

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作者
Hye Won Yun,Jinho Lee,Ryun Na Kim,Seung Hwan Ji,Sang Ouk Ryu,Woo‐Byoung Kim
出处
期刊：Current Applied Physics [Elsevier BV]
日期：2022-02-25 卷期号：37: 45-51 被引量：11
标识
DOI：10.1016/j.cap.2022.02.006
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