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Single-Source Chemical Vapor Deposition of 3C-SiC Films in a LPCVD Reactor

作者
Muthu B. J. Wijesundara,Gianluca Valente,W. Robert Ashurst,Roger T. Howe,Albert P. Pisano,Carlo Carraro,Roya Maboudian
出处
期刊：Journal of The Electrochemical Society [Institute of Physics]
日期：2004-01-01 卷期号：151 (3): C210-C210 被引量：56
标识
DOI：10.1149/1.1646141
摘要
Single-Source Chemical Vapor Deposition of 3 C ­ SiC Films in a LPCVD Reactor: I. Growth, Structure, and Chemical Characterization , Wijesundara, Muthu B. J., Valente, Gianluca, Ashurst, William R., Howe, Roger T., Pisano, Albert P., Carraro, Carlo, Maboudian, Roya
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