极紫外光刻
同步加速器
平版印刷术
光学
光源
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波长
同步辐射光源
同步辐射
材料科学
极端紫外线
光电子学
X射线光刻
物理
纳米技术
梁（结构）
激光器
图层（电子）
储存环
作者
Takeo Watanabe,Tetsuo Harada
标识
DOI：10.1364/euvxray.2020.etu1a.5
摘要
The recent EUVL activities of resists, masks, and optics at NewSUBARU Synchrotron Light Facility are introduced. In addition, the capabilities of the shortening the wavelength to 6.75 nm with high-power EUV source are also discussed.
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