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Surface chemical mechanisms of trimethyl aluminum in atomic layer deposition of AlN

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作者
Karl Rönnby,Henrik Pedersen,Lars Ojamäe
出处
期刊：Journal of Materials Chemistry C [Royal Society of Chemistry]
日期：2023-01-01 卷期号：11 (40): 13935-13945 被引量：2
链接
rsc.org kb.se diva-portal.orgdoi.org
标识
DOI：10.1039/d3tc02328a
摘要
Two different pathways for decomposition of adsorbed trimethyl aluminum in the ALD of AlN have been investigated by computation chemistry. The two pathways give different saturation coverage and thus growth per cycle.
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