A trilayer waveguide grating antenna with offset etching grooves for high directionality and large effective length

偏移量(计算机科学) 栅栏 材料科学 蚀刻(微加工) 光学 方向性 波导管 光电子学 物理 纳米技术 计算机科学 图层(电子) 遗传学 生物 程序设计语言
作者
Zhangjie Ji,Yi-Ming Shi,Changquan Xia,Haitao Chen,Liwen Cheng
出处
期刊:Engineering research express [IOP Publishing]
卷期号:6 (3): 035320-035320
标识
DOI:10.1088/2631-8695/ad66b0
摘要

Abstract In this study, a trilayer waveguide grating antenna with offset etching grooves is proposed, the trilayer waveguide composed of a diffractive layer (Si 3 N 4 ) - waveguide layer (Si) - diffractive layer (Si 3 N 4 ) buried in SiO 2 cladding. The inserted Si 3 N 4 diffraction layers effectively reduce the refractive index contrast between the traditional Si waveguide layer and SiO 2 cladding, which diminishes the disturbance coefficient of the conventional antenna, resulting in a large effective length. In addition, the offset etching grooves located on the diffraction layers break the vertical symmetry of the antenna, which enhances the directionality markedly. Simulation results demonstrate a directionality exceeding 87% and a beam steering range of 6.9° along the θ axis in a range of wavelength from 1500 nm to 1600 nm. Specifically, at a wavelength of 1550 nm, the peak directivity of the antenna exceeds 96% while the maximum effective length exceeds 4.4 mm.
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