Enhanced EUV photolithography control for overcoming defectivity challenges

光刻 极紫外光刻 计算机科学 控制(管理) 纳米技术 材料科学 人工智能
作者
Amit Ohri,S.L. Snyder,Vineet Vijayakrishnan Nair,Brian M. Watson,Kwangho Ahn,Efe Ege,Yashvi Singh,Ethan Lee,Howard Chen,Scott Light,Josiah Jebaraj Johnley Jebaraj Johnley Muthuraj,Lishan Chen,Kevin Weich,John Hobbs
标识
DOI:10.1117/12.3034557
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