Formation of SiO2 thin films through plasma- enhanced chemical vapor deposition using SiH4/Ar/N2O

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作者
Jingjing Zhang,Jingquan Guo,Qiutong Zhao,Lihui Yu,Shujun Ye,H. X. Yin,Yeliang Wang
出处
期刊:Thin Solid Films [Elsevier BV]
卷期号:797: 140348-140348 被引量:11
标识
DOI:10.1016/j.tsf.2024.140348
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