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Process Conditions for Low Interface State Density in Si-passivated Ge Devices with TmSiO Interfacial Layer
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原子层沉积
作者
L. Žurauskaitė,
Per-Erik Hellström,
Mikael Östling
出处
期刊：
ECS Journal of Solid State Science and Technology
[Institute of Physics]
日期：2020-12-01
卷期号：9 (12): 125009-
标识
DOI：10.1149/2162-8777/abd48c
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