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Process Conditions for Low Interface State Density in Si-passivated Ge Devices with TmSiO Interfacial Layer

材料科学接口（物质）图层（电子）光电子学钝化基质（水族馆）原子层沉积

作者

L. Žurauskaitė,Per-Erik Hellström,Mikael Östling

出处

期刊：ECS Journal of Solid State Science and Technology [The Electrochemical Society]
日期：2020-12-01 卷期号：9 (12): 125009-

标识

DOI：10.1149/2162-8777/abd48c

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