Direct atomic-scale observation of thermally driven grain-boundary migration associated with triple-junction motion

材料科学 原子单位 晶界 纳米晶材料 化学物理 纳米尺度 透射电子显微镜 三联结 纳米技术 结晶学 微观结构 复合材料 光电子学 化学 物理 量子力学
作者
Khakimjon Saidov,Ivan Erofeev,Hongwei Yan,Zainul Aabdin,Utkur Mirsaidov
出处
期刊:Physical Review Materials [American Physical Society]
卷期号:7 (6) 被引量:9
标识
DOI:10.1103/physrevmaterials.7.063402
摘要

The internal structure of metals is defined by a complex network of grain boundaries (GBs) and their intersections---triple junctions (TJs). Heat or stress forces GBs to migrate, thus altering many physical properties of the material, and TJs play a key role in this migration as they control GB edges. The GB-TJ interaction strongly depends on the local crystallography, so it can only be properly described at the atomic scale. Although recent direct atomic-scale imaging of GB migration provides some insight into their dynamic behavior, the nanoscale details of the coupled motion of TJs and GBs in a natural nanocrystalline system remain elusive. Here, using in situ transmission electron microscopy (TEM) imaging, we describe the dynamics of the GB-TJ system in a nanocrystalline Co film with mixed fcc and hcp crystal phases during thermal annealing at both the mesoscale and the atomic scale. Our observations reveal that GB evolution proceeds through destabilization and displacement of TJs followed by GB relaxation within the new TJ geometry, which modifies the dihedral angles. This process is mediated by atomic-scale disconnection dynamics, where TJs serve as their sources and sinks. These findings advance our understanding of grain evolution in metal nanostructures, which is crucial for engineering their properties.
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