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Effect of PS addition amount on the change of SiO2 film average transmittance with the UV irradiation time Porous SiO2 antireflection film with High UV Resistance

透射率 辐照 材料科学 多孔性 光电子学 光学 复合材料 物理 核物理学
作者
Yonghong Wu,Zhihang Shang,Zhaorui Li,Wenle Zhu,Lifang Nie,Juncheng Liu
出处
期刊：Optical Materials [Elsevier]
日期：2024-05-29 卷期号：153: 115603-115603 被引量：3
标识
DOI：10.1016/j.optmat.2024.115603
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