Effect of PS addition amount on the change of SiO2 film average transmittance with the UV irradiation time Porous SiO2 antireflection film with High UV Resistance
透射率
辐照
材料科学
多孔性
光电子学
光学
复合材料
物理
核物理学
作者
Yonghong Wu,Zhihang Shang,Zhaorui Li,Wenle Zhu,Lifang Nie,Juncheng Liu