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Phase patterning for ohmic homojunction contact in MoTe 2

同质结 欧姆接触 材料科学 光电子学 相(物质) 纳米技术 计算机科学 图层(电子) 兴奋剂 量子力学 物理
作者
Suyeon Cho,Sera Kim,Sera Kim,Jung Ho Kim,Jiong Zhao,Jinbong Seok,Dong Hoon Keum,Jaeyoon Baik,Duk‐Hyun Choe,K. J. Chang,Kazu Suenaga,Sung Wng Kim,Sung Wng Kim,Young Hee Lee,Heejun Yang
出处
期刊:Science [American Association for the Advancement of Science]
卷期号:349 (6248): 625-628 被引量:1155
标识
DOI:10.1126/science.aab3175
摘要

Artificial van der Waals heterostructures with two-dimensional (2D) atomic crystals are promising as an active channel or as a buffer contact layer for next-generation devices. However, genuine 2D heterostructure devices remain limited because of impurity-involved transfer process and metastable and inhomogeneous heterostructure formation. We used laser-induced phase patterning, a polymorph engineering, to fabricate an ohmic heterophase homojunction between semiconducting hexagonal (2H) and metallic monoclinic (1T') molybdenum ditelluride (MoTe2) that is stable up to 300°C and increases the carrier mobility of the MoTe2 transistor by a factor of about 50, while retaining a high on/off current ratio of 10(6). In situ scanning transmission electron microscopy results combined with theoretical calculations reveal that the Te vacancy triggers the local phase transition in MoTe2, achieving a true 2D device with an ohmic contact.
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