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Properties of ScxAl1-xN (x = 0.27) thin films on sapphire and silicon substrates upon high temperature loading
作者
Patrick M. Mayrhofer,
Per O. Å. Persson,
Achim Bittner,
U. Schmid
出处
期刊:
Microsystem Technologies-micro-and Nanosystems-information Storage and Processing Systems
[Springer Science+Business Media]
日期:2015-12-29
卷期号:22 (7): 1679-1689
被引量:28
标识
DOI:10.1007/s00542-015-2798-7
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