Chemical Vapor Deposition Growth of 2D Ferroelectric Materials for Device Applications

铁电性 化学气相沉积 材料科学 纳米技术 钙钛矿(结构) 光电子学 工程物理 工程类 化学工程 电介质
作者
Liyao Wang,Guodong Sun,Shuoguo Yuan
出处
期刊:Advanced materials and technologies [Wiley]
卷期号:9 (9) 被引量:4
标识
DOI:10.1002/admt.202301973
摘要

Abstract 2D ferroelectric materials have garnered extensive attention for promising applications in next‐generation electronic devices, which provides a platform to explore ferroelectricity without the critical thickness constraint of traditional perovskite oxide‐based ferroelectric materials. Recent studies have shown that chemical vapor deposition (CVD) can synthesis the large‐area 2D ferroelectric materials, making the 2D ferroelectric materials to be compatible with scalable semiconductor devices. In this Review, the CVD‐grown 2D ferroelectric materials are summarized in terms of materials, properties to devices application view. First, the synthesis strategy and recent advances of the CVD growth of 2D ferroelectric materials are highlighted in the aspects of diverse groups of 2D materials. Second, the recent experimental progress of 2D ferroelectric devices is introduced, and the potential applications of 2D ferroelectric devices are discussed. The availability of the CVD‐grown 2D ferroelectrics provides an abundant playground for not only deep studying the ferroelectric properties, but also conceiving various device applications. Lastly, the perspectives are provided to address the current challenges in terms of materials design, physics mechanism, device, and multifunctional application.
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