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Ta-Doped SnO2 as a reduction–resistant oxide electrode for DRAM capacitors
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作者
Cheol Jin Cho,
Myoung‐Sub Noh,
Woo Chul Lee,
Cheol Hyun An,
Chong‐Yun Kang,
Cheol Seong Hwang,
Seong Keun Kim
出处
期刊：
Journal of Materials Chemistry C
[Royal Society of Chemistry]
日期：2017-01-01
卷期号：5 (36): 9405-9411
被引量：25
标识
DOI：10.1039/c7tc03467a
摘要
Ta-Doped SnO
2
could be a promising reduction–resistant oxide electrode for DRAM capacitors.
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