Low-temperature, atmospheric pressure reverse water-gas shift reaction in dielectric barrier plasma discharge, with outlook to use in relevant industrial processes

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作者
Rohit Chaudhary,G.J. van Rooij,Sirui Li,Qi Wang,Emiel J. M. Hensen,Volker Hessel
出处
期刊:Chemical Engineering Science [Elsevier BV]
卷期号:225: 115803-115803 被引量:23
标识
DOI:10.1016/j.ces.2020.115803
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