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作者
Drew M. Weninger,Luigi Ranno,Samuel Serna,Lionel C. Kimerling,Anu Agarwal
出处
期刊:Advanced Photonics 2018 (BGPP, IPR, NP, NOMA, Sensors, Networks, SPPCom, SOF)
日期:2025-01-01
卷期号:: JD1.11-JD1.11
被引量:1
标识
DOI:10.1364/iprsn.2025.jd1.11
摘要
Silicon nitride photonic integrated circuits were fabricated on glass substrates for the first time using reactive ion etched edge facets, demonstrating a minimum propagation loss of 2.4 ± 0.36 dB/cm and minimum edge coupling loss of 2.17 ± 0.79 dB.
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