Infrared Spectroscopy of Si(111) and Si(100) Surfaces After HF Treatment: Hydrogen Termination and Surface Morphology

材料科学 形态学(生物学) 红外线的 红外光谱学 曲面(拓扑) 光学 几何学 数学 遗传学 量子力学 生物 物理 有机化学 化学
作者
Yves J. Chabal,G. S. Higashi,K. Raghavachari
出处
期刊:MRS Proceedings [Springer Nature]
卷期号:131 被引量:6
标识
DOI:10.1557/proc-131-191
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