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Propagation characteristics of shear horizontal surface acoustic waves in (11 2 0) ZnO film/silica glass substrate structures

材料科学 基质(水族馆) 溅射沉积 声表面波 剪切(地质) 溅射 腔磁控管 薄膜 分析化学(期刊) 光学 复合材料 物理 纳米技术 化学 海洋学 色谱法 地质学
作者
Akio Tanaka,Takahiko Yanagitani,Mami Matsukawa,Yoshiaki Watanabe
出处
期刊:IEEE Transactions on Ultrasonics Ferroelectrics and Frequency Control [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:55 (12): 2709-2713 被引量:24
标识
DOI:10.1109/tuffc.2008.986
摘要

This paper presents the propagation characteristics of the shear horizontal surface acoustic wave (SH-SAW) in ZnO (0deg, 90deg, psi) (11 2macr 0) textured ZnO films. ZnO (0deg, 90deg, 0deg) film/interdigital transducer (IDT) electrode/silica glass substrate structures were fabricated by RF magnetron sputtering. Experimental results demonstrate that SH-SAW was clearly excited in these structures. We also theoretically estimated the electromechanical coupling coefficient K 2 in the ZnO (0deg, 90deg, psi) film/silica glass substrate structure. The theoretical results show that the IDT electrode/ZnO (0deg, 90deg, 55deg) film/silica glass substrate structure had a relatively high K 2 value of 3.4%. Moreover, the shear horizontal displacement component of the SH-SAW in this structure is much larger than the transverse and longitudinal displacement components. This structure could be used in SH-SAW sensors for evaluating the electrical properties of liquids.

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