INTERFACIAL OXIDE LAYERS AT THE METAL–OXIDE PHASE BOUNDARY

作者
H. Netzer
出处
期刊:Surface Review and Letters [World Scientific]
卷期号:09 (03n04): 1553-1563 被引量:50
标识
DOI:10.1142/s0218625x02003950
摘要

The nature of oxide phases at metal–oxide interfaces, i.e. of oxide layers in the proximity of a metal surface, is assessed by critically examining the available data in the literature. The data reveal a trend towards the formation of reduced oxide phases with lower oxidation states in the vicinity of the interface with a metal. The physical origin of these interface-stabilized oxide layers is discussed and the possible causes include strong metal–metal bonding, high oxygen affinity of the substrate metal, reduction of the interfacial strain, and the stability of two-dimensional oxide phases.

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