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Modeling and analysis of undoped GaN grown in a horizontal laminar flow MOCVD reactor

金属有机气相外延 材料科学 层流 流量（数学） 光电子学 机械 复合材料 外延 图层（电子） 物理
作者
Takahiro Gotow,Tsutomu Sonoda,Tokio Takahashi,Hisashi Yamada,Toshihide Ide,Reiko Azumi,Mitsuaki Shimizu,Yosuke Tsunooka,Shota Seki,Kentaro Kutsukake,Toru Ujihara
出处
期刊：Materials Science in Semiconductor Processing [Elsevier BV]
日期：2025-01-05 卷期号：188: 109258-109258 被引量：2
标识
DOI：10.1016/j.mssp.2024.109258
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