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Highly Accurate Docking of a Photonic Crystal Nanolaser to a SiNx Waveguide by Transfer Printing

材料科学 纳米激光器 激光器 转印 光子学 光子晶体 波导管 光电子学 光学 光子集成电路 激光阈值 波长 物理 复合材料
作者
Tsan-Wen Lu,Yu‐Chen Lin,Po-Tsung Lee
出处
期刊:ACS Photonics [American Chemical Society]
卷期号:10 (8): 2679-2687 被引量:2
标识
DOI:10.1021/acsphotonics.3c00411
摘要

We propose and demonstrate an improved method for transfer printing that allows for the accurate docking of a photonic crystal nanobeam (NB) laser onto a SiNx waveguide. Our proposed method enables achieving much smaller transfer printing misalignments compared to the conventional approach based on visual alignment in experiments. We tested our method by docking a modified NB laser design with a theoretical unidirectional coupling efficiency of 64% to the SiNx waveguide. The results show a mean rotational misalignment of only 0.08° and a mean displacement misalignment of 26 nm for 48 NB lasers docked at the SiNx waveguides, demonstrating the high accuracy and excellent transfer printing reproducibility of our proposed method. Additionally, measurements indicated that over 97% of these highly accurate docked NB lasers exhibited uniform unidirectional coupling to specific waveguide output facets. We believe that the improved transfer printing steps presented in this study, along with the corresponding hybrid integration of docking NB lasers at the SiNx waveguide, provide a highly promising method for accurately integrating nanowire-based light sources into silicon-based photonic integrated circuits.

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