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作者
Fangling Yang,Zongbiao Ye,Yuqi Chen,Minghui Wang,Panpan Zhou,Fujun Gou
摘要
The tin-oxo cage ([R 12 Sn 12 O 14 (OH) 6 ] 2+ ) is an excellent photoresist candidate in extreme ultraviolet lithography (EUVL). And its' performance is closely related to the counterions.
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