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Controllable adjustment of Ta and Cu material removal rate in TSV tantalum-based barrier layer planarization process

化学机械平面化材料科学抛光钽选择性铜表面粗糙度薄脆饼阻挡层复合材料图层（电子）分析化学（期刊）核化学化学工程纳米技术冶金色谱法化学有机化学催化作用工程类

作者

Zhanjie Du,Ru Wang,Bin Liu,Tao Zheng,Yanwei Dong,Xuhua Chen,Zeyu Liu,Shengxing Han,Yao Zeng,Yiken Li

出处

期刊：Journal of Materials Science [Springer Science+Business Media]
日期：2024-08-27 卷期号：59 (33): 15642-15664 被引量：2

标识

DOI：10.1007/s10853-024-10133-5

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