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Two-dimensional crystalline hard masks for high-aspect-ratio nanofabrication

材料科学 纳米光刻 纳米技术 等离子体刻蚀 范德瓦尔斯力 硅 单层 表面粗糙度 光电子学 纳米结构 基质（水族馆） 深反应离子刻蚀 制作 表面光洁度 蚀刻（微加工） 反应离子刻蚀 等离子体 平版印刷术 各向异性 溅射 干法蚀刻 锡 无定形固体 纵横比（航空） 光刻 金属 雕刻 抵抗 纳米尺度
作者
Pranavram Venkatram,Ziheng Chen,Krishnendu Mukhopadhyay,Bob Hengstebeck,Lei Ding,Vlastimil Mazánek,Yang Yang,Zdenek Sofer,Saptarshi Das
出处
期刊：Nature Materials [Nature Portfolio]
日期：2026-03-10 卷期号：25 (5): 737-746 被引量：2
链接
nih.govdoi.org
标识
DOI：10.1038/s41563-026-02524-7
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