Raman Shift of Surface Reaction and Plasma Induced Surface Damage by TNF3/BNF3 Reactive Ion Etching Process

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作者
Ho Jae Shim,Jin Seok Kim,Da Won Ahn,Jin Hyun Choe,Eunsu Jung,Donghyuk Oh,Kyung Soo Kim,Sung Chul Lee,Sung Gyu Pyo
出处
期刊:Electronic Materials Letters [Springer Science+Business Media]
卷期号:18 (3): 321-329 被引量:3
标识
DOI:10.1007/s13391-022-00341-z
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