Quantum chemical study of trimethylindium and trimethylgallium gas-phase reaction pathways in InGaN MOCVD growth

三甲基铟 三甲基镓 金属有机气相外延 气相 化学 量子化学 材料科学 外延 物理化学 有机化学 分子 图层(电子)
作者
Zhigang Lu,Jianfeng Pan,Hong Zhang,Chao Jiang,Wenming Yang
出处
期刊:Journal of Crystal Growth [Elsevier BV]
卷期号:650: 127992-127992
标识
DOI:10.1016/j.jcrysgro.2024.127992
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