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Research on the epitaxial growth of Power/RF HEMT structures on n-GaN and Fe-doped SI-GaN Free-Standing Substrates by MOCVD

高电子迁移率晶体管 金属有机气相外延 光电子学 外延 材料科学 兴奋剂 氮化镓 纳米技术 晶体管 电气工程 图层（电子） 电压 工程类
作者
Xiao Wang,Yumin Zhang,Mengyi Wang,Jianfeng Wang,Ke Xu
出处
期刊：Vacuum [Elsevier BV]
日期：2025-02-01 卷期号：: 114135-114135 被引量：4
标识
DOI：10.1016/j.vacuum.2025.114135
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