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HfO₂–ZrO₂ Superlattice HZO Ultrathin Poly-Si Channel (3.5 nm) Junctionless FeTFTs Exhibiting Superior Endurance and Robust Retention

材料科学 超晶格 光电子学
作者
Dong‐Ru Hsieh,Zi-Yang Hong,Huai-En Luo,Wei-Ju Yeh,Jia-Chian Ni,Ciao‐Fen Chen,Yen‐Fu Lin,Shun‐Tsung Lo,Tien‐Sheng Chao
出处
期刊:IEEE Transactions on Electron Devices [Institute of Electrical and Electronics Engineers]
卷期号:72 (4): 1756-1762 被引量:1
标识
DOI:10.1109/ted.2025.3544188
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