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Grain-wise piezoelectric response of polycrystalline aluminum nitride thin films: an empirical investigation using piezo force microscopy

材料科学 压电 微晶 氮化物 扫描力显微镜 压电响应力显微镜 复合材料 显微镜 原子力显微镜 光电子学 纳米技术 冶金 光学 铁电性 物理 电介质 图层(电子)
作者
N.G. Sharma,Rajiv Kamparath,Suparna Pal,C. Mukherjee,N. S. Benerji
出处
期刊:Journal of Physics D [IOP Publishing]
卷期号:58 (4): 045302-045302
标识
DOI:10.1088/1361-6463/ad8897
摘要

Abstract Local mapping of piezoelectric response across grains with different crystal planes is crucial to enhance the level of understanding of the piezoelectric behavior of wurtzite hexagonal (WH) AlN thin films. To investigate this phenomenon, polycrystalline WH-AlN thin films were deposited by pulsed-DC magnetron sputtering using a mixture of argon (Ar) and nitrogen (N 2 ) with varying N 2 content as 5%, 10%, and 20% in the form of the AlN/Ti/Si (100) heterostructure. Piezo force microscopy (PFM) was used to establish a correlation among piezo-response (PR) phase contrast, polarity, and crystal planes constituting the film surface. A phenomenological model is also presented to correlate the distribution of interface sheet charges with polar (0002)-, semi-polar (10 1 ¯ 1)-, and non-polar (10 1 ¯ 0)-planes present on the film surface. This interdependence eventually regulates the phase between piezoelectric oscillations and modulation voltage, which is ultimately translated into a grain-wise contrast obtained from PR-phase images.

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