Tungsten passivation layer (WO3) formation mechanisms during chemical mechanical planarization in the presence of oxidizers

化学机械平面化 钝化 溶解 X射线光电子能谱 激进的 化学 图层(电子) 抛光 腐蚀 碳化钨 氧化物 材料科学 无机化学 化学工程 冶金 纳米技术 物理化学 有机化学 工程类
作者
Maneesh Kumar Poddar,Palwasha Jalalzai,Samrina Sahir,Nagendra Prasad Yerriboina,Tae‐Gon Kim,Jin-Goo Park
出处
期刊:Applied Surface Science [Elsevier BV]
卷期号:537: 147862-147862 被引量:28
标识
DOI:10.1016/j.apsusc.2020.147862
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